ICP原子發(fā)射光譜儀廠家

ICP原子發(fā)射光譜儀作為大型精密無機分析儀器，廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等，從超微量到常量的定性或定量分析。它集光、機、電、計算機、分析技術于一體的優(yōu)良產品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。

ICP原子發(fā)射光譜儀廠家

ICP原子發(fā)射光譜儀作為大型精密無機分析儀器，廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等，從超微量到常量的定性或定量分析。它集光、機、電、計算機、分析技術于一體的優(yōu)良產品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。

一、儀器整機主要性能參數(shù)：

波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵

分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；

波長示值和重復性：波長示值≤0.02nm，重復性≤0.003nm；

掃描步距：0.0004nm；

重復性：RSD≤1.0%；

穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；

檢出限：ppb級；

分析元素范圍：可對70種金屬元素和部分非金屬元素（如B、P、Si、Se 、 Te）進行定量

優(yōu)良的光學系統(tǒng)，*控制系統(tǒng)，保證峰位定位準確，信背比優(yōu)良

極小的基體效應，具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和 313.183nm

測量范圍寬， 超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級

配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)

配聯(lián)想電腦

配惠普激光打印機

氣路：雙向或單向均可

氬氣：99.99%

操作軟件：

操作系統(tǒng)：Windows XP 操作平臺或其他主流系統(tǒng)；

有廠家的LOGO標志

測定波長數(shù)：任意選擇；

分析速度：最快時候每分鐘25個元素以上；

數(shù)據(jù)庫：譜線庫11萬條以上；

該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大，提供了多 種方法，如內標校正、IECS和QC

監(jiān)測功能等，可獲得優(yōu)良的背景扣除點以消除干擾

多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量         下一樣品；

標準加入法：軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用；

分析模式：軟件默認優(yōu)良分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測         量方式和幾種 積分模式，單位任選等多種功能歷史數(shù)據(jù)庫：在歷史數(shù)        據(jù)庫中，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結果；

數(shù)據(jù)輸出：軟件支持激光打印機打印分析結果